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等離子去膠機通過等離子體技術(shù)實現(xiàn)材料表面光刻膠或有機污染物的去除，其核心功能依賴于多個精密部件的協(xié)同工作。真空腔室是其核心區(qū)域，為等離子體生成與材料處理提供密閉...
[查看詳情]技術(shù)文章| Technical articles
在材料科學、印刷包裝、電子制造等領域，表面處理技術(shù)是提升材料性能的關(guān)鍵環(huán)節(jié)。實驗室電暈機作為一種非接觸式表面改性設備，通過高頻高壓放電產(chǎn)生的低溫等離子體，能夠改善材料的潤濕性、粘附性和表面能，為后續(xù)加工工藝奠定基礎。其核心機制基于電暈放電現(xiàn)象。當在兩個電極間施加足夠高的電壓時，空氣中的氣體分子被電離，形成帶正電的離子和自由電子。這些帶電粒子在強電場中加速，與周圍氣體分子碰撞，進一步激發(fā)出更多活性粒子，形成低溫等離子體。這一過程可分為三個階段：1.電場建立與氣體電離高壓電源通過...
[查看詳情]應用案例
等離子清洗特點是不分處理對象的基材類型，均可進行處理，對金屬、半導體、氧化物和大多數(shù)高分子材料等都能很好地進行超清洗。
圖為PLUTO-T等離子清洗機對陶瓷基板上銀氧化層的清洗實例。
等離子清洗機可用于晶圓或者電路板表面的光刻膠去除，以及去除光學元件、半導體元件表面的光阻材料等。
圖為PLUTO-MD等離子去膠機對PCB板和硅片的去膠實例。
改善粘合力-用于光學元件、生物醫(yī)學、封裝領域等；
表面改性-用于高分子材料表面修飾、PDMS微流控芯片鍵合、玻璃等，增強表面粘附性、浸潤性、相容性；
圖為PLUTO-M對線路板、橡膠管和手機膜的表面改性實例。
等離子刻蝕是干法刻蝕中常見的一種形式，其原理是暴露在電子區(qū)域的氣體形成等離子體，電離氣體原子通過電場加速時，會釋放足夠的力量與表面驅(qū)逐力緊緊粘合材料或蝕刻表面。
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